メタルシール(半導体)
標準タイプ
EMシリーズ 5850EM / 51EM
メタルシールマスフローコントローラ、ＥＭシリーズは 半導体ウェハプロセスなどの高精度を要求されるガスフローの制御に使用されています。モデル5850ＥＭ/5851ＥＭは、すべての外部シールにメタルＯリングを使用し、高清浄度あるいは真空仕様においての低リークを保証しています。また、内部のねじを減らし平坦なデザインンにより、汚染源を極力取り除き、クリーンかつ長期の安定した動作をご提供いたします。
5850EM
5851EM
特徴
- 低リーク 1×10-11Pam3/s(He)以下
- 高速応答 セトリングタイム3秒以内 （オプション： 1秒以内）
- 電解研磨（オプション）
- 優れたベンチレートを実現することで、よりクリーンで長期安定した動作を実現
- ノーマルクローズバルブ仕様 （ノーマルオープン仕様オプション）
- ワイドな流量範囲
- 傾斜影響を受けにくく、マスフローの取り付け範囲は自由
- 面間及び電気的に他ブルックスマスフローとの互換性あり
- コマンドの設定に関係なくコントロールバルブを全開または全閉にする、バルブオーバーライド機能内蔵
- コマンドがフルスケールの2％以下のときバルブが全閉する、ローコマンドバルブシャットオフ機能
- ＴＴＬ（オープンコレクター）警報出力信号
- 電流入出力（4-40mA)オプション
主な用途
5850EMシリーズは、汎用タイプのメタルシール マスフローコントローラです。気密性に優れ、半導体関連装置での真空系の用途に最適です。 別途、高温タイプもご提供可能です。
- 半導体ウェハプロセス（高速エッチング装置、CVD装置、拡散装置等）
- LCD製造プロセス
- 光ファイバープロセス
仕様
5850EM |
5851EM |
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| 流量 | 6 mL/min[s] ～ 30 L/min[s] (N2ガス換算) |
10 L/min[s] ～100 L/min[s] (N2ガス換算) |
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| コントロールレンジ | 50 : 1 |
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| 精度 | ±1.0% F.S以内 |
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| 繰返し性 | ±0.25% |
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| セトリングタイム | 標準 ＜3sec |
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| 外部リークレート | 1×10-11Pa・m3/s(He)以下 |
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| I/O | 0～5Vdc |
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| 所要電源電圧 | ±15Vdc |
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| 周囲温度範囲(℃) | 5～65 |
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